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石墨純化
特 性 :
⏺ 針對半導體產業使用之石墨塊材進行高溫純化，通過高溫及低壓氣氛，純度可由3N提升至5~6N。
⏺ 有效去除雜質元素（如金屬與氧化物），大幅降低材料不純度至 5 ppm以下，符合半導體極端高潔淨製程需求。
⏺ 結合多階段精密高溫熱處理與特殊氣氛控制機制，不僅具備更高的雜質去除效率，且可避免造成材料結構損傷。
應 用 :
(1) 單晶爐(長晶)用石墨坩鍋與熱場
(2) MOCVD磊晶設備石墨承載盤
(3) 離子植入機石墨零組件
(4) SiC長晶原料之高純度碳粉
服 務 :
◼️ 提供石墨塊材與粉體純化整體設計與代工服務。
產 品 :
⏺ 純化後石墨塊材
(1) 純 度 ：> 99.9995%以上 (5N5)
(2) 雜質含量 ：< 5 ppm
(3) 表面潔淨度：符合半導體級規範
(4) GDMS 純度分析檢測結果 :
純 度 : 99.999929% 不純度 : 0.71ppm
⏺ 高純度碳粉
特 點 : 1. 產品純度 ≧ 99.9998 wt% (5N8)
2. 穩定性好
3. 石墨化度高雜質少
適用範圍 : 1. 合成高純度SiC粉或其他固相合成化物材料
2. 培育鑽石
3. 新型電子產品導熱材料
理化指標 :
