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半導體材料
石墨塊材純化
特 性 :
⏺ 針對半導體產業使用之石墨塊材進行高溫純化，通過高溫及低壓氣氛，純度可由3N提升至5~6N。
⏺ 有效去除雜質元素（如金屬與氧化物），大幅降低材料不純度至 5 ppm以下，符合半導體極端高潔淨製程需求。
⏺ 結合多階段精密高溫熱處理與特殊氣氛控制機制，不僅具備更高的雜質去除效率，且可避免造成材料結構損傷。
應 用 :
(1) 長晶爐石墨坩鍋與熱場
(2) 長晶爐軟氈硬氈天然石墨片
(3) MOCVD磊晶設備石墨承載盤
(4) 離子植入機石墨零組件
服 務 :
◼️ 提供石墨塊材與粉體純化整體設計與代工服務。
產 品 :
⏺ 純化後石墨塊材
(1) 純 度 ：> 99.9995%以上 (5N5)
(2) 雜質含量 ：< 5 ppm
(3) 表面潔淨度：符合半導體級規範
(4) GDMS 純度分析檢測結果 :
純 度 : 99.999929% 不純度 : 0.71ppm